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设备名称:去胶机IoN Wave10

价格(不含税):¥0元/小时
含税价格:¥0元/小时
开机费用:¥0元
*注:若价格为0表示该设备暂不可被租用
点住鼠标左键左右拖动图片可多角度浏览该设备

 

设备介绍

PVA TePla IoN Wave 10利用微波等离子体清除晶圆表面的光刻胶或用于MEMS结构的释放。

特点特色

全自动操作,可用于6inch或8inch晶圆的去胶。
片内去胶均一性优于±10%;片间去胶重复性优于±5%。
功率600W的2.45GHz发生器。
Windows中文操作系统,图形化操作界面。
可配备多路MFC。

 

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